오늘의 반도체 뉴스 2016년 1월 28일

1. "반도체 미세공정 진화 가속 이르면 5년내 5나노대 진입" (2016-01-28 디지털타임스)

기사 미리보기

아트 드 제우스 시높시스 회장이 반도체 업계 미세공정 전환이 이르면 5년 안에 5나노미터 공정까지 가능할 것으로 예상했다. 특히 기존 플라나(평면) 구조에서 수직, 3D 방식으로 공정 기법이 진화하면서 메모리 반도체 시장에도 새로운 기회가 열릴 것으로 내다봤다. 제우스 회장은 28일 디지털타임스와 인터뷰에서 "반도체 미세 공정이 한계에 가까워진 것은 사실이지만 앞으로 5년에서 10년 안에 5나노에 진입할 것"이라며 "엔지니어링의 혁신은 지금도 진행 중이며 평면 구조의 반도체에서 수직으로 넘어가며 새로운 기회가 열리고 있다"고 설명했다.

기사 바로가기

2. 2차원 반도체 신소재의 구조 및 전기적 특성 규명 (2016-01-28 기초과학연구원)

기사 미리보기

IBS 나노구조물리 연구단은 미래 반도체로 소재로 조명 받고 있는 2차원 반도체 물질 이황화몰리브덴의 전기적 특성을 규명하는데 성공하였다. 이황화몰리브덴(MoS2)은 황(S)과 몰리브덴(Mo)이 공유결합한 물질로 나노미터(㎚=10억분의 1ｍ) 미만 두께의 단일층 2차원 초박막(나노박막) 반도체로 구현할 수 있어, 실리콘 반도체를 대체할 미래 신소재로 주목받고 있다.

기사 바로가기

3. 반도체 집적도 획기적으로 늘린 메모리 소자 개발 (2016-01-28 연합뉴스)

기사 미리보기

인텔 창업자인 고든 무어는 반도체의 집적도는 18개월마다 2배로 늘어난다는 '무어의 법칙'을 내놨다. 이는 반도체에 2배로 정교한 회로를 그려 넣는 기술이 필요하지만 비용이나 공정 면에서 상용화가 어려워 가까운 미래에는 집적도가 한계에 다다를 것이라는 의미로 받아들여지고 있다. 그러나 이를 해결할 수 있는 기술을 포스텍(포항공과대) 연구팀이 개발해 관심을 모으고 있다.

기사 바로가기

4. 반도체·스마트폰 성장한계 봉착…`V자 반등` 1년만에 꺾여 (2016-01-28 디지털타임스)

기사 미리보기

2014년 3분기 이후 V자 반등을 이어가던 삼성전자가 4분기 만에 다시 감소세로 돌아섰다. 스마트폰과 반도체 등 주력사업이 성장 한계에 부딪힌 데다 올해 시장 상황 역시 만만치 않은 상황인 만큼, 새로운 성장동력을 마련하지 않는 한 과거와 같은 깜짝 실적 개선은 어려울 전망이다. 삼성전자는 지난해 4분기 연결 기준으로 매출 53조3200억원, 영업이익 6조1400억원의 실적을 거뒀다고 28일 공시했다. 

기사 바로가기